|
การเคลือบแบบหลายชั้น สำหรับกระจกฮีเลียม-นีออนเลเซอร์ /พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ, พายัพ เรืองแก้ว |
|---|---|
| รหัสดีโอไอ | |
| Title | การเคลือบแบบหลายชั้น สำหรับกระจกฮีเลียม-นีออนเลเซอร์ / |
| Creator | พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ |
| Contributor | พายัพ เรืองแก้ว |
| Publisher | สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี, |
| Publication Year | 2532 |
| Keyword | การชุบเคลือบผิว, ฟิล์มบาง, ไดอิเล็กตริก, กระจกฮีเลียม-นีออนเลเซอร์ |
| Abstract | ในงานวิจัยนี้ไดกล่าวถึงการเคลือบสารไดอิเล็กตริกแบบหลายชั้นเพื่อให้ได้กระจกที่มีการสะท้อนแสงสูง สำหรับใช้เป็นกระจกเลเซอร์ของอีเลียม-นีออนเลเซอร์ กระจกเคลือบสารไดอิเล็กแบบหลายชั้น ประกอบด้วยชั้นของฟิล์มไดอิเล็กตริกที่มีดัชนีหักเหสูงสลับกับชั้นของฟิล์มไดอิเล็กตริกที่มีดัชนีหักเหต่ำเคลือบสลับกันไป โดยแต่ละชั้นมีความหนา เท่ากับหนึ่งในสี่ของความยาวคลื่น ในที่นี้ชั้นของฟิล์มที่เคลือบจะอยู่ในรูป : อากาศ (HL)ยกกำลังN H - แก้ว โดยที่ชั้นแรกสุดที่เคลือบบนแผ่นแก้วจะเป็นสารไดอิเล็กตริกที่มีดัชนีหักเหสูง (H) ชั้นที่สองจะเป็นสารไดอิเล็กตริกที่มีดัชนีหักเหต่ำ (L) และขั้นสุดท้ายของการเคลือบจะเป็นสารที่มีดัชนีหักเหสูง (H) อีกครั้งหนึ่ง ดังนั้นถ้าไม่นับชั้นแรก จำนวนชั้นของฟิล์มที่เคลือบจะได้เป็นคู่ของฟิล์ม H-L โดย N เป็นจำนวนคู่ของฟิล์ม H-L ในการทดลองได้เลือก ZnS เป็นสารเคลือบที่มีดัชนีหักเหสูง (nH=2.3) และ Mgf2 เป็นสารเคลือบที่มีดัชนีหักเหต่ำ (nL=1.35) เพื่อทำการเคลือบลงบนแผ่นแก้ว ซึ่งมีดัชนีหักเห n=1.51 โดยวิธีการระเหยของสารภายในระบบสูญญากาศระหว่างที่ทำการเคลือบสารแต่ละชั้น ความหนาของฟิล์มที่เคลือบถูกวัดและควบคุมโดยเครื่องวัดความหนาของฟิล์มด้วยแสง จากผลการทดลองพบว่าสภาพการสะท้อนแสงของกระจกที่เคลือบ 13 ชั้น มีค่าประมาณ 97.1 เปอร์เซนต์ ที่ความยาวคลื่น 632.8 nm |
